上海雙旭DHRM系列射頻磁控濺射鍍膜裝置
制造商：上海雙旭
產(chǎn)品概述
DHRM系列是一種采用射頻（RF）電源的磁控濺射鍍膜設(shè)備，主要用于在實(shí)驗(yàn)室或小批量生產(chǎn)環(huán)境中，于各種基片（如玻璃、硅片、塑料等）表面沉積功能薄膜。該裝置適用于金屬、合金、半導(dǎo)體及介質(zhì)材料等多種薄膜的制備，廣泛應(yīng)用于光學(xué)、電子、材料科學(xué)研究等領(lǐng)域。
主要技術(shù)參數(shù)
- 濺射電源：射頻電源，典型頻率13.56MHz，功率范圍可調(diào)（如0-500W或更高，具體依型號(hào)而定）。
- 真空系統(tǒng)：極限真空度通常優(yōu)于5.0×10⁻⁴ Pa；采用機(jī)械泵與分子泵組合。
- 工作氣壓：濺射工作氣壓范圍一般在0.1 Pa 至 10 Pa 之間。
- 基片臺(tái)：可旋轉(zhuǎn)/加熱基片臺(tái)，加熱溫度范圍依型號(hào)而定（如室溫至500℃或更高）。
- 靶材：標(biāo)準(zhǔn)配置為2英寸或3英寸射頻靶，兼容多種材料（金屬、陶瓷等）。
- 氣體控制系統(tǒng)：質(zhì)量流量計(jì)控制進(jìn)氣（如Ar、O₂、N₂等），實(shí)現(xiàn)反應(yīng)濺射。
- 控制系統(tǒng)：采用PLC或單片機(jī)自動(dòng)控制，具備手動(dòng)/自動(dòng)操作模式。
- 腔體材質(zhì)：主要為不銹鋼，視窗采用石英玻璃或高硼硅玻璃。
- 外形尺寸與電源要求：依具體型號(hào)不同，需參考設(shè)備手冊(cè)，通常為單相或三相交流供電。
使用注意事項(xiàng)
- 安全操作：設(shè)備涉及高電壓、真空及可能的有害工藝氣體。操作人員必須經(jīng)過(guò)培訓(xùn)，并嚴(yán)格遵守電氣安全與真空設(shè)備操作規(guī)程。
- 真空維護(hù)：確保密封圈清潔完好，定期檢查真空泵油位與狀態(tài)，防止大氣壓沖擊損壞系統(tǒng)。
- 靶材與冷卻：確保射頻靶安裝正確，冷卻水路暢通，防止靶材過(guò)熱損壞或產(chǎn)生安全事故。
- 氣體使用：使用惰性氣體（如Ar）或反應(yīng)氣體（如O₂）時(shí)，需保證氣路無(wú)泄漏，反應(yīng)氣體使用后應(yīng)充分沖洗管路。
- 射頻匹配：開(kāi)機(jī)后需仔細(xì)調(diào)節(jié)射頻匹配網(wǎng)絡(luò)，使反射功率最小化，以保護(hù)電源并保證工藝穩(wěn)定。
- 基片清潔：鍍膜前基片必須進(jìn)行嚴(yán)格清潔與干燥處理，否則會(huì)嚴(yán)重影響薄膜附著力與質(zhì)量。
- 維護(hù)保養(yǎng)：定期清潔腔體內(nèi)部沉積物，檢查并更換易損件（如密封圈），按照制造商要求進(jìn)行預(yù)防性維護(hù)。
- 環(huán)境要求：設(shè)備應(yīng)置于清潔、低塵、通風(fēng)良好的實(shí)驗(yàn)室環(huán)境，避免震動(dòng)和強(qiáng)電磁干擾。
注：以上參數(shù)與注意事項(xiàng)為通用性描述，具體型號(hào)的精確規(guī)格、功能及操作流程請(qǐng)務(wù)必參考上海雙旭提供的官方產(chǎn)品說(shuō)明書(shū)或技術(shù)手冊(cè)。
